Ring-resonator based multi-tube microwave remote plasma source cleaning

고리형 도파관공명기를 이용한 다중튜브형 고유량 원격 마이크로웨이브 플라즈마 세정원

Abstract

본 발명에 따르면, 중앙에 통공(111)이 마련된 고리형태로 형성되고, 그 둘레를 따라 복수 개의 방전관삽입공이 일정간격으로 이격되어 배치된 도파관공명기(110); 상기 도파관공명기(110)의 각 방전관삽입공에 관통삽입된 상태로 배치되고, 내부에는 연장된 길이방향으로 이중관(113)이 배치되어, 상기 이중관(113)의 일측으로 공급된 F-라디칼 생성가스를 발생된 플라즈마에 의해 F-라디칼로 분해하여 타측으로 배출하는 방전관(120); 및 상기 도파관공명기(110)의 일측에 설치되며 발진기(131)로부터 생성된 마이크로웨이브를 공급받아 상기 도파관공명기(110)에 인가하는 튜너(134); 상기 튜너(134)와 대향하는 상기 도파관공명기(110)의 타측에는, 상기 도파관공명기(110) 상에서 X축으로의 위치변화에 따라 상기 도파관공명기(110) 내의 전기장의 분포를 X축 방향으로 이동하도록 조절하는 X축 방향 조절기(140); 또 Y축 방향으로의 위치변화에 따라 상기 도파관공명기(110) 내의 전기장의 분포를 원주방향(f)으로 회전되도록 조절하는 원주방향(f) 조절기(180);를 포함하는 고유량 원격 플라즈마 세정원을 제공한다.

Claims

Description

Topics

Download Full PDF Version (Non-Commercial Use)

Patent Citations (2)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2000106359-AApril 11, 2000Sumitomo Metal Ind Ltd, 住友金属工業株式会社マイクロ波プラズマ処理装置
    US-5948168-ASeptember 07, 1999Applied Materials, Inc.Distributed microwave plasma reactor for semiconductor processing

NO-Patent Citations (0)

    Title

Cited By (0)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle